高纯硼通过熔炼、铸造和精密机械加工而成,粉末冶金工艺生产的溅射靶材(Cr、W、Mo、Ta、Nb)采用高**属粉末为原料,通过热压、烧结、热等静压工艺成锭,经特殊热机械处理及精密机加工制造而成,相对密度高达99%,广泛应用于薄膜太阳能电池,OLED,光学镀膜,低辐射玻璃等行业。应用于蒸发镀膜,磁控溅射等方面。北京金源新材科技有限公司提供高纯硼(3N-5N)材料,包括靶材、颗粒、丝材、片材等,详情请咨询金源新材010-51617358。 名称 硼 原子量 10.81 熔 点 2180℃ 沸 点 3650℃ 密度 2.34 g/cm3 颜色 黑色 产品名称 产品纯度 常规规格 产品用途 高纯硼靶 4N 1-6英寸 溅射镀膜 高纯硼粒 5N φ3*3mm 蒸镀、熔炼 高纯硼粉 4N-5N φ0.013-φ1mm 蒸发镀膜